IC用ポジ型フォトレジスト産業レポート:市場規模、シェア、投資機会2025

2025年 10月 20日(月曜日) 16:52

2025年10月、LP Information株式会社(所在地:東京都中央区)は、「グローバルIC用ポジ型フォトレジスト市場の成長2025-2031」の調査レポートを発行しました。

レポートでは、製品タイプ別、用途別、主要メーカー別 IC用ポジ型フォトレジスト 市場の包括的な概要、市場シェア、成長機会を提示しています。
製品別:G Line Photoresist、 I Line Photoresist、 KrF Photoresist、 ArF Photoresist、 EUV Photoresist
用途別:Consumer Electronics、 Automotive、 Industrial Electronics、 Aerospace and Defence、 Telecommunications、 Others
企業別:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. (TOK)、 JSR、 Shin-Etsu Chemical、 DuPont、 Fujifilm、 Sumitomo Chemical、 Dongjin Semichem、 Merck KGaA (AZ)、 Allresist GmbH、 Futurrex、 KemLab™ Inc、 YCCHEM Co., Ltd、 SK Materials Performance (SKMP)、 Everlight Chemical、 Red Avenue、 Crystal Clear Electronic Material、 Xuzhou B & C Chemical、 Xiamen Hengkun New Material Technology、 Jiangsu Aisen Semiconductor Material、 Zhuhai Cornerstone Technologies、 Shanghai Sinyang Semiconductor Materials、 ShenZhen RongDa Photosensitive Science & Technology、 SINEVA、 Guoke Tianji、 Jiangsu Nata Opto-electronic Material、 PhiChem

本レポートでは、IC用ポジ型フォトレジスト市場を以下の地域別にも分類しています:
アメリカ地域:アメリカ、カナダ、メキシコ、ブラジル
アジア太平洋地域:中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリア
ヨーロッパ地域:ドイツ、フランス、イギリス、イタリア、ロシア
中東・アフリカ地域:エジプト、南アフリカ、イスラエル、トルコ、GCC諸国

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https://www.lpinformation.jp/reports/190551/positive-photoresist-for-ics

登録者:LPI6688

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